English
  • head_banner_01
  • head_banner_01

ສູງ 99,8% ຂອງ Titanium Titanium Grade 7 ຮອບເກມ [ເປົ້າຫມາຍເປົ້າຫມາຍ ti ໂລຫະປະສົມ

ສູງ 99,8% Titanium Gritanium Grade 7 ຮອບ Sputtering Sputtering ເປົ້າຫມາຍ Ti ໂລຫະປະສົມ
  • ສູງ 99,8% ຂອງ Titanium Titanium Grade 7 ຮອບເກມ [ເປົ້າຫມາຍເປົ້າຫມາຍ ti ໂລຫະປະສົມ

ລາຍລະອຽດສັ້ນ:

ຊື່ຜະລິດຕະພັນ: Titanium Target ສໍາລັບເຄື່ອງເຄືອບ PVD

ຊັ້ນຮຽນ: Titanium (Gr1, GR2, GR5, GR7, GR12)

ເປົ້າຫມາຍປະເພດ: TI-Al, TI-CR, TI-ZR ອື່ນໆ

ຕົ້ນກໍາເນີດ: Baoji City Shaanxi ແຂວງ Shaanxi ປະເທດຈີນ

ເນື້ອໃນຂອງ Titanium: ≥99,5 (%)

ເນື້ອໃນທີ່ບໍ່ສະອາດ: <0.02 (%)

ຄວາມຫນາແຫນ້ນ: 4.51 ຫຼື 4.50 g / cm3

ມາດຕະຖານ: ASTM B381; ASTM F67, ASTM F136


ລາຍລະອຽດຂອງຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍກໍາກັບຜະລິດຕະພັນ

ຕົວກໍານົດການຜະລິດຕະພັນ

ຊື່ຜະລິດຕະພັນ ເປົ້າຫມາຍ Titanium ສໍາລັບເຄື່ອງເຄືອບ PVD
ຊັ້ນ Titanium (Gr1, GR2, GR5, GR7, GR12)ເປົ້າຫມາຍປະເພດ: TI-Al, TI-CR, TI-ZR ອື່ນໆ
ຕົ້ນກໍາເນີດ ແຂວງ Shaanxi ນະຄອນ Shaanxi ປະເທດຈີນ
ເນື້ອໃນຂອງ titanium ≥99,5 (%)
ເນື້ອໃນທີ່ບໍ່ສະຫຼາດ <0.02 (%)
ຄວາມຫນາແຫນ້ນ 4.51 ຫຼື 4.50 g / cm3
ມາດຕະຖານ Astm b381; ASTM F67, ASTM F136
ຂະຫນາດ 1. ເປົ້າຫມາຍຮອບ: ø30--2000mm, ຄວາມຫນາ 3.0mm - 300mm;2. 2 targe ແຜ່ນ: ຄວາມຍາວ: 200-500mm width: ຄວາມຫນາ 100-230mm: 3--40mm;3. ເປົ້າຫມາຍທໍ່: DIE: ຄວາມຫນາ 30-200 ມມ: ຄວາມຍາວ 5-20mm: 500-2000mm;4. ລູກຄ້າສາມາດໃຊ້ໄດ້
ເຕັກໂນໂລຢີ ປອມແລະ cnc machined
ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ semicondorctor ແຍກ, ອຸປະກອນການເຄືອບຮູບເງົາ, ການເກັບຮັກສາການເຄືອບໄຟຟ້າ, ການເຄືອບ sputterded, ການເຄືອບດ້ານໃນຫນ້າດິນ, ອຸດສາຫະກໍາເຄືອບແກ້ວ.

ຄວາມຕ້ອງການດ້ານສານເຄມີຂອງ Titanium Toint

ASTM B265

GB / T 3620.1

JIS H4600

ເນື້ອໃນອົງປະກອບ (≤wt%)

N

C

H

Fe

O

ອື່ນໆ

Titanium ບໍລິສຸດ

gr.1

ta1

Class1

0.03

0.08

0.015

0.20

0.18

/

gr.2

TA2

Class2

0.03

0.08

0.015

0.30

0.25

/

titaniumໂລຫະປະສົມ

Gr.5

TC4TI-6AL-4V

Class60

0.05

0.08

0.015

0.40

0.2

al: 5.5-6.75

v: 3.5-4.5

Gr.7

TA9

Class12

0.03

0.08

0.015

0.30

0.25

PD: 0.12-0.25

gr.12

TA10

Class60e

0.03

0.08

0.015

0.30

0.25

mo: 0.2-0.4

ni: 0.6-6-0.9

ຄຸນລັກສະນະກົນຈັກຕາມລວງຍາວໃນອຸນຫະພູມຫ້ອງ

ຊັ້ນ

ຄວາມເຂັ້ມແຂງ tensileRM / MPA (> =)

ຄວາມເຂັ້ມແຂງຂອງຜົນຜະລິດRP0.2 (MPA)

ການຢາວA4D (%)

ການຫຼຸດຜ່ອນພື້ນທີ່z (%)

GR1

240

140

24

30

GR2

400

275

20

30

GR5

895

825

10

25

GR7

370

ກາງ 250

20

25

GR122

485

345

18

25

ເປົ້າຫມາຍ sputtering titanium

ຂະຫນາດທົ່ວໄປຂອງ Titanium Sputter Target: φ100 * 40, 40, φ95 * 40, φ95 * φ85 * 35, φ65 * et.

ຍັງສາມາດປັບແຕ່ງຕາມການຮ້ອງຂໍຂອງລູກຄ້າຫຼືຮູບແຕ້ມ

ຄວາມຕ້ອງການເປົ້າຫມາຍ: ຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ເປັນພືດທີ່ເປັນເອກະພາບ, ແລະຄວາມຫນາແຫນ້ນທີ່ດີ.

ຄວາມບໍລິສຸດ: 99,5%, 99,9,5%, 99,98%, 99,995%.

ຂະບວນການຜະລິດເປົ້າຫມາຍ Titanium Target

titanium sponge --- ມີກິ່ນກັບ titanium ingot --- ທົດສອບ --- ຕັດການປອມແປງ --- ມ້ວນ - - ການກວດສອບຄວາມຜິດປົກກະຕິ --- ການຫຸ້ມຫໍ່

ຄຸນລັກສະນະເປົ້າຫມາຍ Titanium

1. ຄວາມຫນາແຫນ້ນຕ່ໍາແລະມີຄວາມເຂັ້ມແຂງສະເພາະສູງ

2. ຄວາມຕ້ານທານດ້ານການກັດທາງທີ່ດີເລີດ

3. ຄວາມຕ້ານທານທີ່ດີກັບຜົນກະທົບຂອງຄວາມຮ້ອນ

4. ຮັບອຸປະສັກທີ່ດີເລີດສໍາລັບຊັບສິນຂອງ Cryonogenics

5. ທີ່ບໍ່ແມ່ນສິ່ງທີ່ບໍ່ແມ່ນຊື່ແລະບໍ່ເປັນພິດ

6. ຄຸນລັກສະນະຄວາມຮ້ອນທີ່ດີ

7. Modulus ຕ່ໍາຂອງຄວາມຍືດຍຸ່ນ

  • ທີ່ຜ່ານມາ:
  • ຕໍ່ໄປ:
    • ຂຽນຂໍ້ຄວາມຂອງທ່ານຢູ່ທີ່ນີ້ແລະສົ່ງໃຫ້ພວກເຮົາ

    ຜະລິດຕະພັນທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ

    ກົດ ENTER ເພື່ອຄົ້ນຫາຫລື ESC ເພື່ອປິດ